K&F Concept HMC UV ochranný filtr blue coated 55 mm

HMC UV filtr K&F Concept je určený k potlačení nežádoucích odlesků při fotografování za prudkého světla. Navíc díky propustnosti 99,8% je vhodný i jako stálý ochranný filtr pro Váš objektiv.

Tloušťka hliníkového rámečku je 3,3mm a samotný filtr je vyroben z odolného japonského skla. Na filtr je několikrát nanesena speciální nano vrstva chránící jej před poškrábáním a umožňující lépe čistit přilnuté nečistoty.

S použitím tohoto filtru získáte pro své fotografie o něco větší kontrast s eliminací nežádoucích odlesků nebo jiných optických vad. Zároveň tak budete chránit samotný objektiv před prachem, vodou nebo mechanickým poškozením.